ASML raddoppia potenza EUV | +50% chip senza nuove fabbriche
ASML ha aumentato la potenza dei macchinari EUV del 50%, permettendo di produrre chip più avanzati senza costruire nuove fabbriche. La causa di questo miglioramento è l’innovazione tecnologica introdotta nei loro sistemi, che permette di ottenere una maggiore precisione e velocità di lavorazione. Durante un test, un laser colpisce velocemente gocce di stagno fuso, dimostrando le capacità del nuovo impianto. Questa evoluzione potrebbe rivoluzionare la produzione di semiconduttori.
La rivoluzione dei 1.000 watt: come ASML cambia il futuro dei semiconduttori. In un laboratorio olandese, un laser colpisce gocce di stagno fuso a una velocità impressionante: 100.000 al secondo. Questo processo, apparentemente banale, rappresenta il cuore della rivoluzione tecnologica annunciata da ASML. La società ha raggiunto un traguardo cruciale: la potenza delle sorgenti EUV è stata portata a 1.000 watt, raddoppiando la frequenza delle gocce rispetto alle configurazioni precedenti. Questo salto tecnologico non è un dettaglio da manuale: è la chiave per aumentare la produttività del 50% entro il 2030. 🔗 Leggi su Ameve.eu
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